2.5 Industrial, scientific & medical
2.5.1
射频功率驱动医疗应用：从成像到癌症治疗，
一个灵活和通用的技术，在医生的工具箱
RF技术使其进入各种医疗应用，范围从
公知的成像技术（MRI ， EPRI）在低频率，外部热处理
和电外科工具，以内窥镜微创肿瘤治疗（射频消融） 。
一个明显的趋势是基于射频技术消融的越来越大的份额。另一种是
向更高的RF频率（数GHz ）和更高的功率（ > 100瓦） ，以趋势
重点应用，
产品&技术
实现更高的空间分辨率，更好的控制和更短的处理时间。
射频辐射不是医学的新技术。它是目前
在MRI中使用的成像目的（磁共振成像）
和电科院（电子顺磁共振成像）技术
该雇用频率从几兆赫到大约500兆赫。
其他知名的外部热治疗，以恢复皮肤或
缓解肌肉酸痛化妆使用频率大约为480千赫 - 不
太苛刻射频方面。手术设备切割和
同时凝固血管逃跑RF约5兆赫。
后者的应用程序属于一类的治疗技术
这是快速增长的，并使用RF辐射能量沉积
局部地在身体的各个部位 - 一般为“烧蚀”
（删除）多余的组织。在人体内，所述射频能量加热
周围组织，直到它是干燥的和/或坏死。该
受损组织将在以后重新吸收由周围，活
组织。射频消融进一步的应用例子包括癌症
治疗在肺，肾，乳房，骨和肝，去除
静脉曲张治疗心脏心律失常和日益增多的名单
受益于较高的控制和反馈的其他应用程序
可能的RF 。
射频的这方面的另一个优点是，它可以是
通过在天线结束小导管的部署RF应用
信号。不同于老，直流技术中，组织被加热
只有非常局部天线周围。邻近的神经（和
心脏）不刺激。这导致了多种开发
专门的导管，微创手术过程中使用，
随着超声波或X射线成像，以确定准确的
在RF-积极参与的位置。在治疗中，阻抗
周围的组织可以被监控和终点的
确定的。有了适当的导管，人们甚至可以实现“自我
限制“由于射频能量的干涸的摄取减少
组织。同样地，在RF频率可用于调节能量
导管周围沉积区：频率越高，则
穿透深度小 - 因而该卷以沉积
RF能量 - 在水样组织。
随着向更高的RF频率和功率的走势，
射频发生器的复杂性和对设备的要求
技术也增加。 10 MHz以上，也就是说，高达3.8 GHz时，
选择的技术功率放大器为Si LDMOS （横向
扩散金属氧化物半导体） 。该技术已被证明
是强有力的，高效且坚固的基站，雷达
系统，广播发射机，和其他工业，科学，
和医疗（ISM）的应用程序。 LDMOS可以从最多
50 V电源，实现功率高达1,200瓦每单
装置，以优异的耐用性和高增益和效率。
驱动和控制所述LDMOS功率放大级，它
采用压控振荡器，锁相环和
中等功率放大器。 RF信号链的这些部分是
可方便地根据可靠和高容量的SiGe ：C
（多层式四子棋）半导体技术。再进一步， 1
甚至可以使用高速转换器来驱动信号链
完全从数字域，为充分和容易地控制
形状和施加的RF调制。
RF的影响
这些原位医疗应用，并且在一般情况下，大多在ISM
应用程序，通常形成在一些高度不匹配的RF负载
使用周期的一部分。这又意味着，如果没有保护
或其他措施，所有的"injected" RF功率反射回
需要的放大器和的最后阶段，在待耗散
晶体管（多个） ，并且最有可能破坏设备（多个） ，如果这种情况
持续太长时间。 LDMOS晶体管的设计是极其
坚固耐用，能承受一般这些不匹配的情况下，不
随时间降解。
此装置的耐用性，或者可以承受“苛刻”的射频能力
在一般情况下，无论是不匹配或极短的脉冲上升
时间和下降时间，对于可靠的设备性能的关键。射频功率
公司已竭尽全力，以达到最佳的一流的
设备的耐用性。根据该技术已经被硬化的
在开发过程中最严格的耐用性测试，这是
对于50 V技术尤其如此。除其他因素外，该
寄生双极的基极电阻和漏扩展
LDMOS器件在这方面发挥关键作用。
这种坚固性，结合功率密度和高
效率实现的，使得LDMOS的首选技术
射频功率放大器高达3.8 GHz的。
恩智浦半导体RF手册16
th
版
63
PHILIPS [ NXP SEMICONDUCTORS ]
