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PIC18F4431-I/PT 参数 Datasheet PDF下载

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型号: PIC18F4431-I/PT
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内容描述: 28 /40/ 44引脚增强型闪存微控制器采用纳瓦技术,高性能PWM和A / D [28/40/44-Pin Enhanced Flash Microcontrollers with nanoWatt Technology, High-Performance PWM and A/D]
分类和应用: 闪存微控制器
文件页数/大小: 392 页 / 3127 K
品牌: MICROCHIP [ MICROCHIP TECHNOLOGY ]
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PIC18F2331/2431/4331/4431
2.2
2.2.1
电源引脚
去耦电容
2.2.2
槽路电容
去耦电容在每对使用
电源管脚,如V
DD
, V
SS
, AV
DD
AV
SS
,是必须的。
使用去耦时,需要考虑以下标准
电容器:
电容的值和类型:
A 0.1
F
( 100 NF) ,
10-20V电容建议。电容器
应该是一个低ESR装置,具有共振
频率在200兆赫或更高的范围内。
建议使用陶瓷电容。
放置在印刷电路板:
去耦电容应尽量靠近
到销地。建议
上放置的同一侧的电容器
板作为器件。如果空间有限,在
电容器可以被放置在所述另一层
采用PCB过孔;但是,需要确保跟踪
从引脚到电容长度不
大于0.25英寸(6毫米)。
处理高频噪声:
如果板
经历高频噪声(向上的
数十MHz ) ,添加一个陶瓷电容
器在平行于上述解耦
电容。所述第二电容器的值可以
在0.01的范围内
F
0.001
F.
把这个
第二电容靠近每个主去耦
电容。在高速电路设计中,考虑
让10对电容为
靠近电源和地引脚越好
(例如, 0.1
F
与0.001并行
F).
最大限度地提高性能:
在电路板布局
从电源电路中,需要将电源和
先返回痕迹的去耦电容,
然后到器件引脚。这确保了
去耦电容是第一次在电力产业链。
同样重要的是要保持的走线长度
电容和电源引脚之间
最低限度,从而降低PCB走线
电感。
板卡与电源走线运行时间超过
六英寸长度,建议使用一个罐capac-
itor集成电路,包括微控制器,以
提供本地电源。罐的值
电容器应根据跟踪判断
电阻的电力供给源连接
该设备,并通过引出的最大电流
装置中的应用。换句话说,选择坦克
电容器使其符合可接受的电压骤降
该设备。典型值的范围从4.7
F
47
F.
2.2.3
注意事项使用
BOR
当欠压复位( BOR )功能启用时,
在V的突然变化
DD
可能会导致自发
BOR事件。这可能发生在当微控制器
在正常操作条件下操作时,考虑以下各项
少了什么BOR设置点进行了编程
到,即使V
DD
不接近设定点。
在这些BOR事件的促发因素是上升或
爱上V
DD
与压摆率超过0.15V / s更快。
即采用适当的去耦应用程序
电源之间的电源将不会遇到这样的
快速的电压变化。另外,使用的
跨V的电解电容箱
DD
和V
SS
作为
如上所述,将有助于防止高转换
率转换。
如果应用程序有一个打开或关闭的组件,
并且共享相同的V
DD
电路的微控制器,
欠压复位可以通过使用被禁止的软件
SBOREN开关组件之前位。离职后
病房内,才允许重新启用BOR一个小的延迟。
通过这样做,可以确保BOR被禁止
这可能会导致高转换率的时间间隔内
V的变化
DD
.
注意:
不是所有器件均包含软件BOR
控制权。看
设备特定的信息。
DS39616D第26页
2010 Microchip的技术公司